这种级别的实验的细节无数。
任何一个细节的疏忽可以说都是致命的。
并没在场的一众光刻机专家从来没有听说过。
有哪一本有关实验的汇总手册是完全凭着想象就能完成的。
哪一个汇总手册不是建立在无数次实验之上才形成的。
这种行为放在任何一个科研人员严重。
都是对实验的极为不尊重和将实验当做了一场儿戏。
这也不怪在场的一众光刻机专家会如此反应。
虽然他们在一开始听到这个消息的时候。
大多数人都是对此感到无比的震惊。
但是随着细细思考之下。
他们就能完全能够推断出一些东西。
不过即使是他们。
一时间也想不清楚徐浩为何要这样做。
难不成徐浩对自己在半导体领域的理论体系的研究这么有自信的吗?
更不明白一向成熟稳重的徐浩为何这次会这般离谱。
怀揣着疑问和不解。
也是出于对龙国元首嘱咐的遵守。
所有光刻机专家无不是细细查阅徐浩编写的手册上的信息。
“设计和模拟新的晶体管结构,以在2纳米尺度上实现高性能和低功耗。这可能涉及纳米片、纳米线或其他先进的纳米结构。“
“其次在光刻与刻蚀技术上。开发或采用先进的光刻技术,以在硅片上精确刻画纳米级别的电路图案。”
“使用极紫外光刻技术或纳米压印技术来实现这一目标。随后,使用刻蚀技术将图案转移到硅片上。”
“在材料与工艺验证一过程上。在实验室环境中制造和测试小批量的2纳米精度芯片样品。通过电学、热学和可靠性测试来验证芯片的性能和稳定性。”